信息摘（zhāi）要：
隨著集成電路工業以及半導體行業技術越來越（yuè）快的發展，在生產過程中不僅對設備（bèi）的要求越（yuè）來（lái）越精密、可靠，而且對工藝製造環境的要求也是越來越嚴格（gé）。 對（duì）微電子半導體製造（zào）業來說，氣態分子汙染物（wù）（Airborne Molecular Contaminants, AMC）會造成半導體（tǐ）晶體表麵（miàn）的氧化和侵蝕，導致產品合格率降低（dī），是生產（chǎn）工藝的關鍵環節。 AMC控（kòng）製（zhì）的必要性 Why to contral the AMC 對微（wēi）電子製造業來（lái）說，空氣...
隨著集（jí）成電路工（gōng）業以及半導體行業技術越來越快（kuài）的發展，在生產過程中不僅對設備的（de）要求越來越精密、可靠，而且（qiě）對工藝製造環境的要求也是越來越（yuè）嚴格。
對微電子半導體製（zhì）造業來說（shuō），氣態分（fèn）子汙染物（Airborne Molecular Contaminants, AMC）會造成半導體晶體表麵的氧化和侵蝕，導致產品合格率降低，是生產工藝的關鍵環節。
AMC控製的必（bì）要性
Why to contral the AMC
對微電子（zǐ）製造業來說，空氣環境（jìng）中產生（shēng）的有害物質危害生（shēng）產車間和產品，並因此（cǐ）引起成品良率降低的化學物質，稱為分子級汙染物（wù）或氣態分子汙染物(AMC)。
分子汙染物大小比顆粒汙染物小得多，相差幾個數（shù）量級（jí），高效（xiào）過濾器(HEPA) 或者超高效過濾器(ULPA) 無法去除分子汙染物(AMC)。
ITRS國際半（bàn）導體技術路（lù）線圖
隨著半導體製程（chéng）技術的飛速發展，芯片線寬已經進入納米級，對半導體產品（pǐn）生產環（huán）境的要求也越來（lái）越（yuè）高，所以微電子廠房內分子級空氣（qì）汙染的控製也越來越重要。
ITRS是（shì）International Technology Roadmap for Semiconductors的簡稱（chēng），中文名稱為國際半導體技術藍圖。ITRS的目的是確保集成電路(IC)和使用IC的產品在成本效益基礎上的性能改進，從而持續半（bàn）導體產業的健康和成功。
國（guó）際半導體技術協會對AMC的分類
Classification of AMC
AMC對電子半導體製程的影響
Effect of AMC on electronic semiconductor process
AMC對電子半導體製程的影響主要表現為表麵分子汙染，這是由氣態分（fèn）子（zǐ）和特定表麵作用而形成非常薄的（de）化學膜，化學膜通常改變產（chǎn）品（pǐn）表麵的物理、電子、化學和光學特（tè）性，主（zhǔ）要表現在以（yǐ）下幾個方麵：
● 導致光阻層（céng）表麵（miàn）硬化T型缺陷
● 硼磷（lín）摻雜不受控
● 導致不能控製蝕刻速度，鄰苯二（èr）甲酸二（èr）丁酯（DOP）易附著於晶片表麵形成碳（tàn）化矽SiC
● 引起閾值（zhí）電壓改變，硼元素（B2O3）、BF3等氣態汙染物，會（huì）引起晶片表（biǎo）麵汙染
● 汙染物氣（qì）體如HF、HCl、H2SO4、H3PO4、Cl2、NOX、SOX等，引起晶片表麵汙染，導致金屬（shǔ）化製程中的金屬附著力下降
● 汙（wū）染氣（qì）體導致芯片內連接導線因腐蝕而報廢
● 造成掩模及步（bù）進設備上光學鏡麵模糊（hú）
● 導致（zhì）設施和（hé）設備腐蝕而停機（jī）
● 導致HEPA過濾器降解，維護成本增加
● 導致無效清潔
晶圓表麵汙染的種（zhǒng）類（lèi）及其對元器件的影響
裸露晶圓表麵（miàn）霧化過程
不（bú）同濃度的分子汙染物對製程的影響
在0.15~0.2μm製程暴（bào）露於10ppb（左圖）及1ppb（右圖（tú））的NH3汙染環境30分鍾後的結果
黃光製程光（guāng）阻解析不良T-TOP形成（0.35um製程）
不同製程汙染物種類（lèi）的分布
潔淨室AMC的來源
如何控製（zhì）AMC
How to contral AMC
AMC控製方法主要（yào）有三種：
一、從汙染源控製：移走（zǒu）汙染源。這就需（xū）要評估潔淨室內、外部空氣質量，從而確定潛在的汙染氣體及濃（nóng）度；
二、在通風環節控製：引入潔淨空氣。選擇（zé）相應的過（guò）濾器來去除汙染氣體。
三、“根除”控製：通過物理或化學手段控製汙染物；吸附、吸收及化學吸收汙染物。後續對受控（kòng）環境AMC的實時監測。主要原理如下：
幹式濾料反應式去除
物理吸附：
一（yī）種物質被另（lìng）一種物質吸引並附著於表麵（miàn）的過程，活性碳正是利用這一原理來去除汙染物。
* 吸附是一種表麵現象；
* 越高的表麵積吸附能力越強（qiáng）；
缺點：易飽和，為（wéi）了吸附（fù）其他物質，容易將已經吸附的物質釋放出來，過程可逆。
化（huà）學吸附：
汙染物同（tóng）吸附劑中的化學物質發生化學反應，從而達到去除汙染物的目的，華淨濾料正是通過（guò）這一原理來實現。
* 該過程非常特殊，取決（jué）於吸（xī）附（fù）劑和被吸附物的化學性質；
* 該過程基本速度很快，並且是不（bú）可逆的；
* 可以將有毒有害氣體（tǐ）通過（guò）化學反應氧化為無害（hài）的固體。
